摘要
为了获得类似于夜行性蛾眼复眼减反射性能的微纳结构，已经开发了许多制造技术，例如，电子束光刻、纳米压印光刻以及激光干涉光刻[1，2]。尽管电子束光刻可以制备各种图案，但是其低下的效率和较高的制备成本限制了它的工业应用。激光干涉光刻具有快速、高效、系统易搭建的优点，是用于制造具有三维周期性和准周期性微米和纳米结构的一种新兴技术[3，4]。本文结合双光束双曝光激光干涉光刻和ICP（电感耦合等离子体刻蚀）技术，以石英玻璃为基底，研究了激光干涉光刻制备点阵结构及具备该结构的石英玻璃的透过率，并且获得了高达95%接近96%的透过率。
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