摘要
目前，我国的经济针在快速的发展，科技在不断的进步，本文对模具自由曲面抛光效率低、磨粒抛光轨迹均匀性差的问题，提出一种变轨迹弹性抛光轮技术。介绍了弹性抛光轮工具的工作原理与机械结构设计，以Preston方程结合赫兹接触理论为指导，对抛光接触区内的压力分布、速度分布和磨粒抛光轨迹均匀性进行研究，建立抛光工具的材料去除模型。结果表明：转速比对磨粒抛光轨迹均匀性有重要影响，在下压量为0.5mm、抛光接触圆直径为5mm、公转3周时，转速比为10.645751的CV值比转速比为10时降低了32%；当转速比趋于无理数时
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