建筑工程技术与设计2018,Issue(29) :3320.

电子半导体器件制造中直拉单晶硅氧浓度的控制

张琳 姜燕杰
建筑工程技术与设计2018,Issue(29) :3320.

电子半导体器件制造中直拉单晶硅氧浓度的控制

张琳 1姜燕杰1
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  • 1. 济南晶恒电子有限责任公司 山东 济南 250000
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摘要

单晶硅材料被广泛的应用于半导体和太阳能发电领域,随着对环境资源的保护与可持续发展的战略需要,我们对可再生能源的需求也在不断地增加,因此就需要加强对直拉单晶硅的质量控制,人类必须进行可再生能源的需求不断增加,这就要求直拉单晶硅的质量也要进一步的提高。在电子半导体器件制造中,单晶硅的氧浓度会严重影响单晶硅产品的性能,也是单晶硅生长过程中较难控制的环节。基于此,本文主要对电子半导体器件制造中直拉单晶硅氧浓度的控制进行分析探讨。

关键词

电子半导体器件制造/直拉单晶硅/氧浓度/控制

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出版年

2018
建筑工程技术与设计

建筑工程技术与设计

影响因子:0.156
ISSN:
参考文献量2
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