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重庆西永微电子产业园区研发楼项目设计构思
重庆西永微电子产业园区研发楼项目设计构思
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万方数据
中文摘要：
本文主要对重庆西永微电子产业园区研发楼项目进行相应的介绍，阐述研发楼建筑设计中应该注意的设计问题，同时在建筑设计中融入更加先进的设计技术，为其他研发楼建筑设计方面的进一步开展提供一些可行性的思路。
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作者：
陈小平
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作者单位：
中煤科工集团重庆设计研究院，400010
关键词：
重庆
西永微电子产业园区
研发楼项目
设计构思
出版年：
2013
建筑与文化(学术版)
世纪图书出版公司
建筑与文化(学术版)
ISSN：
1672-4909
年,卷(期)：
2013.
(6)
参考文献量
5
万方数据
