建筑与文化(学术版)2013,Issue(6) :516-517.

重庆西永微电子产业园区研发楼项目设计构思

陈小平
建筑与文化(学术版)2013,Issue(6) :516-517.

重庆西永微电子产业园区研发楼项目设计构思

陈小平1
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作者信息

  • 1. 中煤科工集团重庆设计研究院,400010
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摘要

本文主要对重庆西永微电子产业园区研发楼项目进行相应的介绍,阐述研发楼建筑设计中应该注意的设计问题,同时在建筑设计中融入更加先进的设计技术,为其他研发楼建筑设计方面的进一步开展提供一些可行性的思路。

关键词

重庆/西永微电子产业园区/研发楼项目/设计构思

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出版年

2013
建筑与文化(学术版)
世纪图书出版公司

建筑与文化(学术版)

ISSN:1672-4909
参考文献量5
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