国家学术搜索
登录
注册
中文
EN
科技研究
2014,
Issue
(1) :
209-209.
ICP-AES法测定氧化铟中的痕量杂质
王鑫
科技研究
2014,
Issue
(1) :
209-209.
引用
认领
✕
来源:
NETL
NSTL
万方数据
ICP-AES法测定氧化铟中的痕量杂质
王鑫
1
扫码查看
点击上方二维码区域,可以放大扫码查看
作者信息
1.
中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津市 300220
折叠
摘要
建立了氧化铟粉末中Al、Cu、Cd、Cr、Fe、Mg、Mn、Mo、Ni、Ti、Zn11种杂质元素的ICP-AES测定方法,关于基体对被测元素的干扰,选择了仪器最佳工作参数,方法回收率为:92.8%~110.7%相对标准偏差<3%。
关键词
电感耦合等离子体发射光谱
/
氧化铟
/
痕量杂质
引用本文
复制引用
出版年
2014
科技研究
科技研究
ISSN:
引用
认领
参考文献量
2
段落导航
相关论文
摘要
关键词
引用本文
出版年
参考文献
引证文献
同作者其他文献
同项目成果
同科学数据成果