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应变硅锗pMOSFET Ⅰ-Ⅴ和跨导模型研究

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应变硅锗pMOSFET器件是当前的研究热点,本文基于应变硅锗pMOSFET器件结构与特点,建立其I-V和跨导模型,对其进行了模拟仿真,获得了电流和跨导随关键参数的变化趋势,仿真结果表明比普通硅器件性能提升明显,为应变硅锗技术的发展奠定理论基础.

王颖

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陕西学前师范学院 基建处 陕西西安710100

应变硅锗pMOSFET器件 能带结构 模型研究

2017

科技经济导刊

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ISSN:
年,卷(期):2017.(17)
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