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集成电路中多重图形工艺专利技术综述
集成电路中多重图形工艺专利技术综述
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中文摘要：
集成电路制造工艺的发展是以特征尺寸的减小作为原驱动力的,特征尺寸的减小极大程度上取决于光刻技术的发展,多重图形工艺被认为是目前实现22nm技术,甚至14nm技术的重要的可行性解决方案,本文通过对专利文献进行检索,统计和分析了多重图形工艺的发展现状,重点梳理了该领域的专利申请量趋势、分布地区、重要申请人等状况,并对技术发展的趋势进行了预测.
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作者：
曹丽冉
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作者单位：
国家知识产权局专利局专利审查协作天津中心
关键词：
集成电路
多重图形工艺
专利
出版年：
2017
科技尚品
科技尚品
ISSN：
年,卷(期)：
2017.
(2)
参考文献量
1
NETL
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