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氧气分量对直流磁过滤电弧源沉积氧化钽薄膜性能的影响

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采用直流磁过滤电弧源技术,在K9玻璃基底上制备氧化钽薄膜,研究了氧气分量对膜层化学计量比、透过率、折射率的影响.结果表明:随着氧气分量的增加,膜层中氧元素含量逐渐增加,O/Ta原子比由1.73增加至2.05,膜层保持较高透过率,且峰值透过率接近基底透过率,薄膜折射率有所降低,但明显高于传统其他物理气相沉积技术.

王昆

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西安工业大学,陕西 西安 710021

电弧源 磁过滤 氧化钽薄膜 氧气分量 阴极靶电流

2017

科技展望
宁夏科技信息研究所

科技展望

ISSN：1672-8289
年,卷(期)：2017.27(9)
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