科技展望2017，Vol.27Issue(9) ：99,101.

氧气分量对直流磁过滤电弧源沉积氧化钽薄膜性能的影响

王昆
科技展望2017，Vol.27Issue(9) ：99,101.
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氧气分量对直流磁过滤电弧源沉积氧化钽薄膜性能的影响

王昆1
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  • 1. 西安工业大学,陕西 西安 710021
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摘要

采用直流磁过滤电弧源技术,在K9玻璃基底上制备氧化钽薄膜,研究了氧气分量对膜层化学计量比、透过率、折射率的影响.结果表明:随着氧气分量的增加,膜层中氧元素含量逐渐增加,O/Ta原子比由1.73增加至2.05,膜层保持较高透过率,且峰值透过率接近基底透过率,薄膜折射率有所降低,但明显高于传统其他物理气相沉积技术.

关键词

电弧源/磁过滤/氧化钽薄膜/氧气分量/阴极靶电流

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出版年

2017
科技展望
宁夏科技信息研究所

科技展望

ISSN：1672-8289
参考文献量2
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