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光学形貌测量专利技术综述
光学形貌测量专利技术综述
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中文摘要：
光学形貌测量是指运用光学技术手段获取物体表面三维坐标信息以表征物体表面形态特征的一种重要手段.光学形貌测量属于非接触式测量,相较于接触式测量具有测头变形小,精度,实时性好等优点.本文主要介绍了各种不同光学形貌测量技术的基本原理及其特点,统计分析了相关专利申请现状,并对专利申请中光学形貌测量技术的发展概况作了简要介绍.
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作者：
郑俊
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作者单位：
国家知识产权局专利局专利审查协作广东中心,广东 广州 510530
关键词：
光学
形貌测量
专利申请
出版年：
2017
科技展望
宁夏科技信息研究所
科技展望
ISSN：
1672-8289
年,卷(期)：
2017.
27
(20)
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