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涂布R光阻残说明

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涂布机的功能是在基板表面涂布一层均匀的光阻(光刻胶),在LCD行业中使用较多.我们公司使用的是spinless类型(非旋转型),在TFT array及CF制程中使用最为广泛,其主要特点是:膜面均一性较好、材料消耗较低,缺点是:机台较大、精度要求较高;所以为确保优点且减少缺点的发生,机台从安装到调试再到精度,需要从复杂的机械结构、电气结构、激光laser系统、震动效应、磁悬浮驱动等多方面同时入手,保证涂布效果最大化;除此之外,原材料的选择、制程条件的合理使用是确保涂布效果的重要因素;R光阻残不良的发生就是以上某个环节发生了问题导致,在以下段落中做说明.

徐飞

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南京中电熊猫液晶材料科技有限公司,江苏 南京 210033

涂布机 R光阻残 浅析

2017

科技展望
宁夏科技信息研究所

科技展望

ISSN:1672-8289
年,卷(期):2017.27(29)