超高像素密度面板光刻对焦工艺研究

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中文摘要：随着虚拟现实(AR)、超高清分辨技术的逐步推广，市场对显示屏的像素密度要求越来越高。本文基于传统光学对焦系统架构和原理，开展了对超高像素密度图形在光刻工艺中对焦精度和实时控制的研究，根据系统结构，分析出主要干扰源，并根据干扰贡献值进行了评估。结果表明，由于底层图像密度过大，原有的对焦控制系统在测量光刻胶表面高度时受到底层图像干扰，当像素密度大于1200PPI时，为了在后续曝光层达到±10μm之间精度99。5％的对焦控制，需要在原有信号处理技术上过滤掉干扰信号。

外文标题：Research on Lithography Focusing Process for Ultra-High Pixel Density Panel

作者：

薛瑞

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作者单位：

应用材料(西安)有限公司陕西西安 710000

关键词：

虚拟现实光刻工艺对焦控制超高像素密度卡尔曼滤波

出版年：

2022

DOI：

10.16660/j.cnki.1674-098X.2205-5640-0719