三重四极杆电感耦合等离子体质谱法测定集成电路用N-甲基吡咯烷酮中14种金属杂质的含量

Determination of 14 Metal Impurities in N-Methylpyrrolidone for Integrated Circuits by Triple Quadrupole Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

李春华 ¹高一鸣 ¹郝萍 ¹田玉平 ¹曹建雄 ¹李杰¹

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作者信息

1. 上海市计量测试技术研究院,上海201203
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摘要

提出了有机加氧进样系统结合三重四极杆电感耦合等离子体质谱法测定集成电路用N-甲基吡咯烷酮(NMP)中 Na、Cd、Pb、Mg、Al、Ca、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、K 等 14 种金属杂质含量的方法.通过氧气在线燃烧的方式降低了碳沉积对锥口的影响,采用标准加入法匹配基体效应,使用冷等离子体-氨气碰撞反应模式解决了碳元素质谱干扰的问题,如12C12C+对24 Mg+的干扰,12C40Ar+对52Cr+的干扰.14种元素的加标回收率为83.2％～123％,14种元素工作曲线的相关系数均大于0.999 0,方法可用于分析杂质元素质量分数低于20.00 ng·kg-1的样品,满足先进制程的质量要求.

关键词

N-甲基吡咯烷酮(NMP)/三重四极杆电感耦合等离子体质谱法/金属杂质/先进制程

Key words

N-methylpyrrolidone(NMP)/triple quadrupole inductively coupled plasma mass spectrometry/metal impurity/advanced production process

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基金项目

上海市2020年度"科技创新行动计划"技术标准项目(20DZ2203000)

上海市市场监管局科研项目(2021-02)

出版年

2023

理化检验-化学分册

上海材料研究所

理化检验-化学分册

CSTPCDCSCD北大核心

影响因子：0.647

ISSN：1001-4020

参考文献量4

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