流程工业2024，Issue(7) ：28-31.

新一代金属离子纯化器,用于ppt级别光刻胶纯化

王桂河 吴迪
流程工业2024，Issue(7) ：28-31.
✕
  • NETL
  • NSTL
  • 万方数据

新一代金属离子纯化器,用于ppt级别光刻胶纯化

王桂河 1吴迪1
扫码查看

作者信息

  • 1. 舒万诺公司(原3M Healthcare)
  • 折叠

摘要

随着半导体技术进步,光刻胶中金属离子杂质对芯片性能与寿命影响显著,传统去金属离子方法已难满足ppb级以下高纯度需求.亟须创新技术提升去除效率,保障芯片质量以满足生产过程中的严苛要求.本文会向大家介绍一款舒万诺公司(原3M Healthcare)的高效金属离子纯化器Metal Ion Purifier(以下简称"MIP"),采用特殊的树脂固化微床技术,具有很高的单次通过金属离子去除效率,满足ppt级别的金属离子指标要求,同时具有超高的金属离子交换容量,超低的金属离子析出水平.

关键词

光刻胶/金属离子/纯化器/离子交换/树脂/溶剂

引用本文复制引用

出版年

2024
流程工业

流程工业

ISSN：
段落导航相关论文