用碱性纳米SiO2浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工的研究

扫码查看

原文链接

中文摘要：采用碱性纳米SiO2浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工,与酸性浆料对比,在平整度PV、均匀度rms和粗糙度RA均获得显著提高.

外文标题：CMP Study of NiP Substrate of Computer Hard-disk with Alkali Nanometer SiO2 Slurry

作者：

田军、刘玉岭、唐文栋、张国玲、王立发

展开 >

作者单位：

河北工业大学微电子技术与材料研究所,天津,300130

关键词：

硬盘基板 CMP 碱性浆料粗糙度平整度

基金：

国家自然科学基金天津市自然科学基金教育部博士教育基金

项目编号：

1067600804380121120050080007

出版年：

2009

纳米科技

西安纳米科技学会陕西省电子学会纳米技术专业委员会

ISSN：1812-1918

年,卷(期)：2009.6(1)