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磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用
磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用
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中文摘要:
在自行设计出的直接耦合石英管式微波等离子体化学气相沉积(Chemical Vapor Deposi-tion,CVD)金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场,以更好地约束等离子体,使等离子体球成为"碟盘"状,提高了等离子体球的密度,在基本参数不变的情况下,沉积面积可由ψ030mm增长到50mm,沉积速度由每小时3.31μm增长到3.8μm,反射电流减小,从而减少了在石英管壁和观察窗的沉积,更好地利用微波能量,有效利用电离的活性基团沉积出高质量的(类)金刚石薄膜.
外文标题:
Application of Magnetic Field in Direct Coupler Microwave Plasma CVD Diamond Film Device
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作者:
杜康、徐伟、吴智量、贺中信、彭军
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作者单位:
广州大学物理与电子工程学院,广东,广州,510006
关键词:
微波等离子体
化学气相沉积
金刚石膜
磁镜场
基金:
广州市属高校科技计划项目
项目编号:
62003
出版年:
2009
纳米科技
西安纳米科技学会 陕西省电子学会纳米技术专业委员会
纳米科技
ISSN:
1812-1918
年,卷(期):
2009.
6
(2)
参考文献量
2