磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用

Application of Magnetic Field in Direct Coupler Microwave Plasma CVD Diamond Film Device

杜康 ¹徐伟 ¹吴智量 ¹贺中信 ¹彭军¹

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作者信息

1. 广州大学物理与电子工程学院,广东,广州,510006
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摘要

在自行设计出的直接耦合石英管式微波等离子体化学气相沉积(Chemical Vapor Deposi-tion,CVD)金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场,以更好地约束等离子体,使等离子体球成为"碟盘"状,提高了等离子体球的密度,在基本参数不变的情况下,沉积面积可由ψ030mm增长到50mm,沉积速度由每小时3.31μm增长到3.8μm,反射电流减小,从而减少了在石英管壁和观察窗的沉积,更好地利用微波能量,有效利用电离的活性基团沉积出高质量的(类)金刚石薄膜.

关键词

微波等离子体/化学气相沉积/金刚石膜/磁镜场

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基金项目

广州市属高校科技计划项目(62003)

出版年

2009

纳米科技

西安纳米科技学会陕西省电子学会纳米技术专业委员会

纳米科技

ISSN：1812-1918

参考文献量2

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