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CuS纳米粒子/分子沉积膜的制备及其摩擦学性能研究

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利用分子沉积技术制备了PDDA/PAA分子沉积膜,然后在膜中原位反应生长了CuS纳米粒子,紫外-可见分光光度计、XPS及原子力显微镜(AFM)分析表明,CuS纳米粒子在膜中分布均匀,团聚现象不明显,纳米粒子的粒径随原位反应时间的增加而增加,AFM的力学测试表明,该膜具有良好的减摩抗磨性能.
Research on Preparation and Nanotribological Behavior of CuS Nanoparticle and Molecular Deposition Film

郭岩宝、王德国、张嗣伟

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中国石油大学,北京,机电工程学院,北京,102249

分子沉积膜 原位生长 CuS纳米粒子

国家自然科学基金国家重点基础研究发展规划(973计划)国家重点基础研究发展规划(973计划)清华大学摩擦学国家重点实验室开放项目

505751519732007CB607604SKLT05-02

2009

纳米科技
西安纳米科技学会 陕西省电子学会纳米技术专业委员会

纳米科技

ISSN：1812-1918
年,卷(期)：2009.6(3)
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