纳米科技2009，Vol.6Issue(4) ：38-41.

磁控溅射低温沉积ITO薄膜及其光电特性研究

Research on Photoelectric Characteristics of ITO Film Prepared by DC Magnetron Sputtering at low Temperature

江伟 武光明 王怡 邢光建 韩彬
纳米科技2009，Vol.6Issue(4) ：38-41.
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磁控溅射低温沉积ITO薄膜及其光电特性研究

Research on Photoelectric Characteristics of ITO Film Prepared by DC Magnetron Sputtering at low Temperature

江伟 1武光明 1王怡 1邢光建 1韩彬1
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作者信息

  • 1. 北京石油化工学院,北京,102617
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摘要

率变小,进而对样品的光电性能产生明显影响.

关键词

直流磁控溅射/ITO薄膜/低温/光响应

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基金项目

北京市教育委员会科技发展计划面上项目(KM200610017009)

出版年

2009
纳米科技
西安纳米科技学会 陕西省电子学会纳米技术专业委员会

纳米科技

ISSN：1812-1918
被引量2
参考文献量12
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