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氮化硅中纳米非晶硅薄膜的制备
氮化硅中纳米非晶硅薄膜的制备
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中文摘要：
采用射频等离子体化学气相沉积技术(RF-PECVD)在单晶硅片衬底上制备了镶嵌有纳米非晶硅颗粒的氮化硅薄膜.实验表明:制备的氮化硅薄膜中出现了氮化硅晶体颗粒和微晶硅颗粒,且微晶硅颗粒尺寸小于100nm,可视为纳米晶硅颗粒.
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作者：
何静、王广川
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作者单位：
重庆邮电大学移通学院,重庆 401520
关键词：
氮化硅
RF-PECVD
纳米非晶硅薄膜
出版年：
2020
汽车博览
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ISSN：
年,卷(期)：
2020.
(10)
参考文献量
2
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