针对船舶领域对仿贝壳元件的高精度需求,设计一种螺旋线式抛光轨迹对仿贝壳表面进行磁性复合流体(MCF)抛光.根据抛光轨迹和仿贝壳表面方程计算出所有走刀路径下抛光点的加工坐标,提出一种抛光路径优化算法,解决了螺旋线式抛光轨迹在进行MCF抛光时工件底部区域较顶部区域抛光接触点较少造成抛光不均匀的问题,并建立弓高误差模型,对抛光路径优化前后的弓高误差变化规律进行仿真.仿真结果表明,轨迹优化后相比优化前的弓高误差最大值从2.667μm降低到1.841μm,弓高误差的RMS值从1.896μm降低到0.885μm,PV值从2.301μm降低到1.562μm.因此,使用抛光轨迹优化算法后的仿贝壳表面加工精度更高.
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