摘要
为解决某水电站地下厂房中导洞顶拱开挖光面爆破效果差、半孔率低、平整度不好的问题,爆破工程技术人员深入施工现场,查找原爆破方案及钻爆作业过程中存在的问题,分析原方案取得的光爆效果及产生的原因,提出相应的改进思路;通过一系列光面爆破实验,确定合理的光爆参数:周边孔间距45 cm、周边孔抵抗线55 cm～60 cm、孔内装药间隔62.5 cm～66.0 cm、线装药密度120 g/m～135 g/m,同时为整个地下厂房开挖初步确定可供参考的光爆参数.实验结果表明:对于较完整的Ⅲ类以上围岩,只要选择合理的光面爆破参数,精细化钻孔爆破作业,光面爆破半孔率均能达到90％以上,平均径向超挖值均能控制在规范要求范围内.
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