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干法刻蚀工艺对TFT-LCD Flicker改善的探讨
干法刻蚀工艺对TFT-LCD Flicker改善的探讨
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中文摘要：
在此次研究中,针对TFT-LCD干法刻蚀影响TFT特性的程度进行了重点研究,通过优化刻蚀条件,使Photo-Iof得以降低,实现改善TFT-LCD闪烁不良的目标.根据试验结果表明,在优化干法刻蚀工艺条件的基础上,使得TFT特性得以改善,且闪烁情况变化显著.
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作者：
吴杰
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作者单位：
210033 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 江苏 南京
关键词：
干法刻蚀工艺
TFT-LCD
Flicker
改善
出版年：
2019
数字化用户
数字化用户
ISSN：
年,卷(期)：
2019.
25
(52)
参考文献量
3
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