科技与创新2021，Issue(8) ：38-39.DOI:10.15913/j.cnki.kjycx.2021.08.012

基于LED器件的纳米粗化ITO薄膜研究

陈思河
科技与创新2021，Issue(8) ：38-39.DOI:10.15913/j.cnki.kjycx.2021.08.012
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基于LED器件的纳米粗化ITO薄膜研究

陈思河1
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  • 1. 厦门市三安光电科技有限公司,福建 厦门 361009
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摘要

采用磁控溅射和离子辅助沉积等方式制作多种ITO薄膜.结果发现LED器件电压主要受底部膜层沉积方式和第二段退火条件的影响.另外,膜层的最终表面对光萃取有显著影响,结合离子辅助蒸镀技术,可获得更优光萃效果的纳米粗化表面,其中溅射200Å厚度搭配蒸镀100Å厚度的ITO复合膜系,经二次退火后具有最佳特性.

关键词

LED器件/纳米粗化ITO薄膜/镀膜方式/ITO薄膜性能

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出版年

2021
科技与创新
中国计算机用户协会

科技与创新

ISSN：1008-0570
参考文献量1
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