国家学术搜索
登录
注册
中文
EN
科技与创新
2021,
Issue
(19) :
62-63,65.
DOI:
10.15913/j.cnki.kjycx.2021.19.026
低温溅射硫化铜薄膜正极及其储锂性能研究
黄智月
张红
王星辉
科技与创新
2021,
Issue
(19) :
62-63,65.
DOI:
10.15913/j.cnki.kjycx.2021.19.026
引用
认领
✕
来源:
NETL
NSTL
维普
万方数据
低温溅射硫化铜薄膜正极及其储锂性能研究
黄智月
1
张红
1
王星辉
1
扫码查看
点击上方二维码区域,可以放大扫码查看
作者信息
1.
福州大学,福建 福州 350108
折叠
摘要
采用射频磁控溅射方法低温制备硫化铜薄膜正极,研究了硫化铜薄膜作为锂离子电池正极的储锂性能.结果表明,硫化铜薄膜正极具有较高的放电面积比容量,在10μA/cm2的电流密度下,第二次放电面积比容量为71.5 uAh/cm2,循环50次后,电极的放电面积比容量仍有37.5μAh/cm2,所以该低温溅射的硫化铜薄膜正极具有集成于集成电路的潜力.
关键词
射频磁控溅射
/
硫化铜薄膜
/
全固态薄膜锂电池
/
正极
引用本文
复制引用
出版年
2021
科技与创新
中国计算机用户协会
科技与创新
ISSN:
1008-0570
引用
认领
参考文献量
3
段落导航
相关论文
摘要
关键词
引用本文
出版年
参考文献
引证文献
同作者其他文献
同项目成果
同科学数据成果