噻吩硫化物深度脱除中的反应吸附脱硫机理及吸附剂的研究进展

Review on mechanism and adsorbents for deep removal of thiophene by reaction adsorption desulfurization technology

郭佳伟 ¹卫藩婧 ¹王建成 ¹常丽萍 ¹廖俊杰¹

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作者信息

1. 太原理工大学煤科学与技术省部共建国家重点实验室培育基地,山西太原030024
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摘要

对反应吸附脱硫(RADS)机理及其所用吸附剂进行了归纳总结.结果表明,Ni/ZnO和Cu/ZnO是RADS应用最广泛的吸附剂,ZnO载体较小的晶粒尺寸、较大的比表面积、适宜的活性组分含量有利于吸附剂脱硫性能的提高;RADS过程中,噻吩类含硫化合物先吸附在镍、铜活性位上,生成中间产物镍、铜硫化物,随后被H2还原将S转化为H2S,并与ZnO载体发生反应生成ZnS而被吸附.分析认为,为了获得性能优良的Ni/ZnO和Cu/ZnO吸附剂,可通过改变制备手段来实现,沉淀剂和模板剂的选取、结晶条件的改善、金属的掺杂以及焙烧温度的调控等是主要的调控因素.

关键词

噻吩/反应吸附/脱硫机理/镍基吸附剂/铜基吸附剂

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基金项目

山西省自然科学基金面上项目(201901D111119)

山西省科技重大专项(MJH2016-03)

山西省高等学校科技创新项目()

出版年

2021

现代化工

中国化工信息中心

现代化工

CSTPCDCSCD北大核心

影响因子：0.553

ISSN：0253-4320

参考文献量5

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