现代化工2022，Vol.42Issue(3) ：79-84.DOI:10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2022.03.017

7 nm高分辨率极紫外光刻胶研究新进展

Latest progress in 7 nm high resolution extreme ultraviolet photoresist

谭俊玉 艾照全
现代化工2022，Vol.42Issue(3) ：79-84.DOI:10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2022.03.017
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7 nm高分辨率极紫外光刻胶研究新进展

Latest progress in 7 nm high resolution extreme ultraviolet photoresist

谭俊玉 1艾照全1
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作者信息

  • 1. 湖北大学化学化工学院,有机功能分子合成与应用教育部重点实验室,湖北武汉430062
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摘要

从化学元素、分子结构、光化学性能等方面,系统综述了 7 nm分辨率极紫外光刻胶研究和应用新进展,展望了未来发展的方向、机遇与挑战.

关键词

光刻胶/分子玻璃/极紫外/分辨率/聚合物

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出版年

2022
现代化工
中国化工信息中心

现代化工

CSTPCDCSCD北大核心
影响因子：0.553
ISSN：0253-4320
被引量1
参考文献量30
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