摘要
以氮气为氮源、氢气为放电气体,利用介质阻挡放电(DBD)等离子体成功制备了 N掺杂缺陷二氧化钛材料,并通过TEM、XPS、EDS和FT-IR等表征方法对其进行分析.结果表明,改性后的二氧化钛在80 min内光催化降解亚甲基蓝溶液可达96%,光催化降解速率约为未经处理二氧化钛的3.5倍.经过4次重复使用后,光催化性能仍能达到80%.经过DBD等离子体处理后的二氧化钛材料形成了氧空位和N掺杂,氧空位能在导带下形成缺陷能级,N掺杂能够在价带上形成杂质能级,在两者协同作用下,禁带宽度从3.2 eV减小至2.88 eV,增强了可见光区域的吸收.同时,光生电子-空穴复合速率受到抑制,产生更多的羟基自由基,从而提高二氧化钛的光催化活性.