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现代化工
2022,
Vol.
42
Issue
(7) :
32-36.
DOI:
10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2022.07.007
铋系半导体光催化材料的研究进展
Research progress about bismuth-based semiconductor photocatalytic materials
李大玉
张文超
周慧
沈明
现代化工
2022,
Vol.
42
Issue
(7) :
32-36.
DOI:
10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2022.07.007
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来源:
维普
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铋系半导体光催化材料的研究进展
Research progress about bismuth-based semiconductor photocatalytic materials
李大玉
1
张文超
1
周慧
2
沈明
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作者信息
1.
扬州大学机械工程学院,江苏 扬州225127
2.
扬州大学化学化工学院,江苏 扬州225127
折叠
摘要
综述了几类常见的铋系半导体光催化材料,铋系半导体粉末、涂层常用的制备工艺方法;介绍了铋系半导体光催化材料的性能增长机制,以及几种特殊的材料结构(花状,微球状等);最后说明了几种常用铋系半导体材料的不同应用,并展望了未来的研究方向和应用领域.
关键词
铋系半导体
/
纳米结构
/
光催化
/
涂层
引用本文
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基金项目
国家自然科学基金(51602279)
扬州大学"高端人才"项目(20185912)
江苏省青蓝工程项目(20200012)
出版年
2022
现代化工
中国化工信息中心
现代化工
CSTPCD
CSCD
北大核心
影响因子:
0.553
ISSN:
0253-4320
引用
认领
被引量
3
参考文献量
1
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