蓝宝石化学机械抛光专利技术分析

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中文摘要：本文首先对蓝宝石化学机械抛光专利申请状况进行概述,然后重点从蓝宝石化学机械抛光装置结构、抛光垫、修整器、CMP停止、抛光液、蓝宝石应用及加工工艺等方面,分析蓝宝石CMP专利技术.

外文标题：Analysis of Patent Technology of Sapphire Chemical Mechanical Polishing

作者：

高玉江、刘洋、刘腾达、李春雨

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作者单位：

国家知识产权局专利局专利审查协作天津中心,天津 300304

关键词：

蓝宝石化学机械抛光 CMP 专利

出版年：

2017

现代制造技术与装备

山东省机械设计研究院山东机械工程学会

影响因子：0.197

ISSN：1673-5587

年,卷(期)：2017.(2)