湖南科技大学学报(自然科学版)1999，Vol.14Issue(1) ：69-71.

MoSi2低温氧化行为的研究

STUDY OF LOW-TEMPERATURE OXIDATION PROCESS OF MoSi2

张厚安 梁洁萍 李颂文 龙春光
湖南科技大学学报(自然科学版)1999，Vol.14Issue(1) ：69-71.
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MoSi2低温氧化行为的研究

STUDY OF LOW-TEMPERATURE OXIDATION PROCESS OF MoSi2

张厚安 1梁洁萍 1李颂文 1龙春光1
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作者信息

  • 1. 湘潭矿业学院机械系,湖南湘潭,411201
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摘要

通过热重量分析法(简称TGA法)测定了MoSi2在低温下氧化不同时间后的重量变化,发现500 ℃比400 ℃或600 ℃时的氧化速率明显加快,但未出现"PEST"现象.认为"PEST"与氧化层中相的组成有密切关系,氧化时表面生成的致密SiO2保护层是阻碍氧化深入进行的重要原因.图3,参4.

关键词

氧化/MoSi2/温度

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基金项目

煤炭部青年基金(97-073)

出版年

1999
湖南科技大学学报(自然科学版)
湖南科技大学

湖南科技大学学报(自然科学版)

影响因子：0.675
ISSN：1672-9102
被引量4
参考文献量4
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