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铝铜合金靶材的微观结构对溅射沉积性能的影响

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磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜，节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数月的晶圆。通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的品粒取向和品粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响。实验结果显示，溅射速率与靶材的原子密排度成正比关系，靶材的原子密排度受品粒取向和晶粒尺寸的影响，有特定的变化范围，因此溅射速率也只在一个范围内变化。沉积速率和沉积效率受靶材表面窄间内原子密排方向分布的影响，原子密排方向分布则由靶材的晶粒取向和晶粒尺寸决定。
Effects of Target Microstructure on Al-Cu Alloy Sputtering and Depositing Performance

李洪宾、江轩、王欣平

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北京有色金属研究总院有研亿金新材料股份有限公司,北京,102200

铝铜合金靶材 微观结构 沉积速率 沉积效率

北京市科技计划项目

D0405001040431

2009

10.3969/j.issn.0258-7076.2009.03.030

稀有金属
北京有色金属研究总院

稀有金属

CSTPCDCSCD北大核心
影响因子：1.483
ISSN：0258-7076
年,卷(期)：2009.33(3)
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