基于大高宽比CD-AFM探针的设计与制备
Design and Manufacture of CD-AFM Probe Based on High-Aspect-Ratio Structure
贺龙 1李淑娴 2苗斌 3李加东 3陈颖 4苗小浦 4吴森4
作者信息
- 1. 大连大学 机械工程学院,辽宁 大连 116622;中国科学院 苏州纳米技术与纳米仿生研究所轻量化实验室,江苏 苏州 215123;中国科学院 多功能材料与轻巧系统重点实验室,江苏 苏州 215123
- 2. 大连大学 机械工程学院,辽宁 大连 116622
- 3. 中国科学院 苏州纳米技术与纳米仿生研究所轻量化实验室,江苏 苏州 215123;中国科学院 多功能材料与轻巧系统重点实验室,江苏 苏州 215123
- 4. 天津大学 精密仪器与光电子工程学院,天津 300072
- 折叠
摘要
针对传统原子力显微镜(AFM)探针和关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)探针受限于针尖有效扫描高度较低,无法对深沟槽和大悬垂侧壁结构进行精准扫描成像的问题,提出了一种大高宽比针尖结构的新型CD-AFM探针设计与制备方案.开发的新型CD-AFM探针针尖有效高度为5.1～5.8 μm,高宽比达到14,相较于传统硅基CD-AFM探针,其有效高度提升了约4倍.利用开发的探针完成了标称深度为2.3 μm、深宽比为4.6的深沟槽样品测试.
Abstract
The conventional atomic force microscope(AFM)and critical-dimension atomic force microscope(CD-AFM)probes are limited by the low effective scanning height of the tip,which prevents the accurate scanning and imaging of deep trenches and large overhanging sidewall structures.Hence,a design and preparation scheme for a new CD-AFM probe with a large-aspect-ratio tip structure is proposed herein.The developed CD-AFM probe has an effective tip height of 5.1-5.8 μm and an aspect ratio of 14.The improved effective height is approximately four times that of conventional silicon-based CD-AFM probes.Finally,the developed probe isevaluated using a deep-trench sample with a nominal depth of 2.3 μm and an aspect ratio of 4.6.
关键词
关键尺寸原子力显微镜探针/深沟槽/大悬垂侧壁/大高宽比/有效高度Key words
critical dimension atomic force microscopy probes/deep grooves/large overhanging sidewall/large aspect ratio/effective height引用本文复制引用
基金项目
国家重点研发计划(2021YFB3201600)
国家自然科学基金面上项目(62074159)
苏州市科技计划(SSD2023001)
出版年
2024
NETL
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