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三苯胺-吩噻嗪衍生物掺杂聚合物的光诱导室温磷光

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在刺激响应发光材料领域，以光作为刺激源的光诱导室温磷光(RTP)材料因其非接触式读写和应用范围广而引起广泛关注。然而，这类材料目前仍相对稀少，开发新型高效光响应RTP分子具有重要意义。通过Buchwald-Hartwig C—N偶联反应成功合成了三个吩噻嗪衍生物TPA-PTZ、TPA-2PTZ和TPA-3PTZ。将上述分子分别作为发色单元掺杂到聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基质中，制备了具有优异光诱导RTP性能的高分子薄膜。其中，TPA-PTZ掺杂薄膜在持续的紫外线照射后，量子产率增加了 19倍，达到了 5。68％。与此同时，这些材料还具备优越的光稳定性和热稳定性，在长时间的紫外线照射(365 nm，500 μW·cm-2，时间＞200 s)或温度高达75 ℃的情况下，仍可以保持较高强度的磷光。这些光诱导RTP材料的独特性质，赋予它们在发光显示、防伪以及先进光学材料领域较大的应用潜力。
Photoinduced Room-Temperature Phosphorescence of Triphenyla-mine-Phenothiazine Derivative-Doped Polymers
Photo-responsive room-temperature phosphorescent(RTP)materials have garnered significant interest due to the advantages of rapid response,spatiotemporal control,and contactless precision manipulation.However,the development of such materials remains in its infancy,underscoring the importance of exploiting novel and efficient light-responsive RTP molecules.In this work,three phenothiazine derivatives of TPA-PTZ,TPA-2PTZ,and TPA-3PTZ were successfully synthesized via the Buchwald-Hartwig C—N coupling reaction.By embedding these molecules as RTP guests into polymethyl methacrylate(PMMA)matrix,photo-induced RTP properties were realized.Upon sustained UV irradiation,there was an enhancement of 19 times in the quantum yield to reach a value of 5.68％.Remarkably,these materials exhibit superior alongside robust light and thermal stability,maintaining high phosphorescence intensity even after prolonged UV exposure(irradiation for＞200 s by a 365 nm UV lamp with the power of 500 μW·cm-2)or at higher temperature up to 75 ℃.The outstanding properties of these photo-induced RTP materials make them promising candidates for applications in information encryption,anti-counterfeiting,and advanced optical materials.

stimuli-responsive luminescent materialsphoto-induced room-temperature phosphorescencephenothiazine deri-vativesdoped polymer

李楠、王雲生、李振

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天津大学分子聚集态科学研究院 天津 300072

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刺激响应发光材料 光诱导室温磷光 吩噻嗪衍生物 聚合物掺杂

国家自然科学基金中国博士后科学基金中国博士后科学基金国家资助博士后研究人员计划

223051722023M7325862024T170640GZB20230509

2024

10.6023/cjoc202404016

有机化学
中国化学会,中国科学院上海有机化学研究所

有机化学

CSTPCD北大核心
影响因子：1.09
ISSN：0253-2786
年,卷(期)：2024.44(8)