在玻璃衬底上利用磁控溅射法制备AZO／Cu／AZO多层薄膜，研究了溅射功率对AZO薄膜的微观结构和光电性能的影响。采用X射线衍射（XRD）仪、扫描电子显微镜（SEM）、紫外可见光谱仪（UVVis）等方法，对AZO薄膜的形貌结构、光电学性能进行了测试。结果表明：不同溅射功率下沉积的AZO薄膜均呈C轴择优取向，溅射功率对AZO／cu／AZO多层薄膜结构与光电性能有一定的影响。在溅射功率为120W、衬底温度为2500C、溅射气压为0．5Pa时薄膜的光透过率为75％，最低电阻率为2．2×10-4Ω·cm、结晶质量、表面形貌等得到明显改善。
NETL
NSTL
万方数据
维普
