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ICP-OES、ICP-MS测定纳米抗菌砧板中总银含量的方法比较

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目的:用ICP-MS和ICP-OES法对纳米抗菌砧板中总银含量进行测定结果进行比较.方法:ICP-MS和ICP-OES法测定纳米抗菌砧板中总银含量,相对标准偏差分别为2.2％-4.3％和3.7％-5.0％,仪器检出限分别为0.03ng/mL和13ng/mL;回收率分别为92.1％-105.8％和90.1％-109.8％.结论:ICP-MS和ICP-OES两种方法对于检测纳米抗菌砧板中总银的含量都比较适合,准确度高,精密度好,其中ICP-MS的检出限明显低于ICP-OES,对于低含量的总银的测定更具优势.

张越、蒋鑫、朱晨、顾蔚、潘浩晖

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纳米抗菌砧板 总银 电感耦合等离子体光谱法 电感耦合等离子体质谱法 方法比较

浙江省质量技术基础建设项目

20180116

2020

中国化工贸易
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影响因子：0.06
ISSN：1674-5167
年,卷(期)：2020.12(19)
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