放电等离子体中XeI准分子的形成过程

Formation of XeI Excimer in the Discharge Plasma

韩理 ¹张连水 ¹赵晓辉 ¹李晓苇 ¹董丽芳 ¹傅广生¹

扫码查看

作者信息

1. 河北大学物理科学与技术学院,河北保定,071002
折叠

摘要

研究了Xe/I2混合气体(气压70～1330 Pa)在直流辉光放电情况下XeI准分子的形成过程,得到了XeI准分子在240～270 nm波长范围内的荧光发射谱.并对XeI(B→X)跃迁谱线强度随混合气体压力的变化进行了实验研究,发现气压为333 Pa时荧光最强;此条件下,放电等离子体的电子温度为13.2 eV,表明低气压放电等离子体中主要反应通道为快电子碰撞Xe使其跃迁至3P,随之与I2碰撞形成XeI(A,B,C).

关键词

准分子/直流辉光放电/荧光发射谱/电子温度

引用本文复制引用

基金项目

河北省自然科学基金(197059)

出版年

2002

中国激光

中国光学学会　中科院上海光机所

中国激光

CSTPCDCSCD北大核心

影响因子：2.204

ISSN：0258-7025

被引量1

参考文献量6

段落导航