ITO薄膜作为当下应用范围最为广泛的透明导电薄膜,在众多领域发挥着关键作用.其中,磁控溅射法在制备ITO薄膜方面应用颇为广泛.通过精心优化制备工艺参数,能够进一步显著改善ITO薄膜的光学和电学性能.在本研究中,我们运用直流磁控溅射法成功制备了ITO薄膜,并深入探究了一系列制备工艺参数,如镀膜温度、氧气流量、靶基距以及溅射功率等,对ITO薄膜光学性能和电学性能产生的影响规律.经过大量的实验和细致的分析,最终确定:当镀膜温度为520℃、氧气流量为50/0.2 sccm、靶基距为16/20 cm以及溅射功率为33W时,能够形成最优的直流磁控溅射制备工艺参数组合,从而为制备出性能卓越的ITO薄膜提供了可靠的工艺条件.
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