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某电子洁净厂房超纯水方案设计
某电子洁净厂房超纯水方案设计
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中文摘要：
在半导体器件设备、电子元件及电子专用材料制造等电子洁净厂房设计时,工艺设备通常需要超纯水(18.2MΩ·cm)进行清洗,本文通过超纯水系统方案设计、供水管路系统、纯水管材选择等的介绍,以期为超纯水系统设计提供参考.
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作者：
赵立德、屈红超
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作者单位：
中国电子系统工程第四建设有限公司,北京 100070
关键词：
电子洁净厂房
超纯水
半导体
出版年：
2024
DOI：
10.20080/j.cnki.ISSN1671-3362.2024.S2.012
中国建筑金属结构
中国建筑金属结构协会
中国建筑金属结构
影响因子：
1.638
ISSN：
1671-3362
年,卷(期)：
2024.
23
(z2)
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