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双离子束溅射ITO薄膜在电磁屏蔽窗口中的应用

Double Ion Beam Sputtering ITO Thin Film and Its Application in Electromagnetic Shielding Windows

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为了研究ITO薄膜在宽角度电磁屏蔽激光窗口中的应用效果,采用双离子束溅射镀膜技术在不同工艺条件下制备了ITO薄膜,根据薄膜的光电性能测试结果,分析了氧气流量、辅助离子源、基片烘烤温度等工艺条件对ITO薄膜透光性和导电性的影响.用Ti2O3和SiO2作为高、低折射率材料,ITO薄膜作为电磁屏蔽膜层,在K9玻璃基片上设计了对2～18GHz电磁波高效屏蔽的0°～45°宽角度入射的1064nm激光窗口膜层,并利用双离子束溅射技术在合适的工艺条件下完成了薄膜的制备.测试结果显示,制备的薄膜透光性和电磁屏蔽性能良好,具有一定的耐酸性,适合作为高效电磁屏蔽、0°～45°宽角度入射的1064nm激光窗口膜层.

王松林、杨崇民、张建付、李明伟、米高园、赵红军、贾雪涛

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西安应用光学研究所,陕西 西安 710065

双离子束溅射 ITO薄膜 电磁屏蔽 宽角度入射 激光窗口

中国兵器工业集团技术开发项目

Z2102

2022

10.13385/j.cnki.vacuum.2022.03.10

真空
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所

真空

CSTPCD
影响因子：0.926
ISSN：1002-0322
年,卷(期)：2022.59(3)
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