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第二十一讲真空卷绕镀膜
第二十一讲真空卷绕镀膜
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作者：
张以忱
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作者单位：
东北大学,辽宁 沈阳 110004
出版年：
2022
DOI：
10.13385/j.cnki.vacuum.2022.04.16
真空
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
真空
CSTPCD
影响因子：
0.926
ISSN：
1002-0322
年,卷(期)：
2022.
59
(4)
