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钽氮化合物电阻薄膜的研究进展

Advances in Tantalum Nitride Resistors Thin Film Materials

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钽氮化合物薄膜材料具有电阻温度系数小、化学稳定性高、功率耐受性好和阻值可调范围大等优点,是高性能电阻薄膜的优选材料.本文综述了钽氮化合物薄膜材料的研究进展,从材料的制备工艺参数、后处理方式、微观相结构和元素掺杂等出发,挖掘了获得高性能薄膜电阻的核心影响因素;结合国内外研究现状,对钽氮化合物薄膜电阻进一步发展存在的难点进行了分析.钽氮化合物薄膜已经成为电子功能材料发展的关键之一,通过元素掺杂和后处理改善薄膜质量将成为进一步拓展其应用领域的重要手段.

杨曌、付振晓、沓世我、王鑫豪、姚日晖、宁洪龙

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新型电子元器件关键材料与工艺国家重点实验室,广东 肇庆 526060

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电子功能薄膜 钽氮化物 薄膜电阻 物相

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2022

10.13385/j.cnki.vacuum.2022.06.06

真空
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所

真空

CSTPCD
影响因子：0.926
ISSN：1002-0322
年,卷(期)：2022.59(6)
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