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面向干式电抗器的氟碳纳米结构薄膜性能调控方法研究

Research on Performance Controlling Method of Fluorocarbon Nanostructured Film for Dry Reactors

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氟碳薄膜具有低介电常数和摩擦系数、高热稳定性和化学惰性、强紫外吸收等优点,作为表面修饰材料,有望提升干式电抗器运行时的环境耐候性和绝缘稳定性.以磁控溅射技术制备氟碳薄膜具有杂质粒子污染少、沉积面积大、反应物成本低、无环境污染等优点.溅射过程中等离子体状态是影响薄膜质量的关键因素,本文讨论了真空室温度和基底温度协同作用对氟碳薄膜化学组分、微结构、沉积速率和微观形貌的影响.结果表明:温度直接作用于溅射组分的产生、输运和沉积过程;温度升高使薄膜表面呈现颗粒-团簇-三维网状结构的形貌演化规律;随溅射温度增加,沉积速率、粗糙度、氟碳比和sp3杂化碳占比增大,薄膜朝类聚四氟乙烯(PTFE-like)的方向发展,有望获得更优异的理化特性.

赵琦、满玉岩、李苏雅、李松原、李琳

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国网天津市电力公司电力科学研究院,天津 300384

天津市电力物联网企业重点实验室,天津 300384

国网天津市电力公司,天津300010

氟碳薄膜 磁控溅射 微纳结构 理化特性

国家电网天津市电力公司科技项目

KJ22-1-36

2022

10.13385/j.cnki.vacuum.2022.06.09

真空
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所

真空

CSTPCD
影响因子：0.926
ISSN：1002-0322
年,卷(期)：2022.59(6)
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