真空2024，Vol.61Issue(3) ：110-112.DOI:10.13385/j.cnki.vacuum.2024.03.20

第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术

张以忱
真空2024，Vol.61Issue(3) ：110-112.DOI:10.13385/j.cnki.vacuum.2024.03.20
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第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术

张以忱1
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作者信息

  • 1. 东北大学,辽宁 沈阳 110004
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出版年

2024
真空
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所

真空

CSTPCD
影响因子：0.926
ISSN：1002-0322
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