首页|第二十三讲 离子注入与离子辅助沉积技术

第二十三讲 离子注入与离子辅助沉积技术

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张以忱

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东北大学,辽宁 沈阳 110004

2024

10.13385/j.cnki.vacuum.2020.05.14

真空
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所

真空

CSTPCD
影响因子：0.926
ISSN：1002-0322
年,卷(期)：2024.61(5)