摘要
针对当前中国精密真空镀膜装备技术与国外差距甚远,存在核心技术缺失、技术发展方向不明确、研发意愿不足等问题,基于可视化技术分析真空镀膜装备国内外专利信息.探索数据处理过程中,通过字段创建与组合以可视化解析当前专利态势和技术,聚焦技术壁垒背景下光学领域磁控溅射(MS)与半导体领域原子层沉积(ALD)国外重点装备制造厂商的技术关注,挖掘出关键部件专利布局、技术功效、专利空白、比较优势等竞争信息,由桑基图、实物图、簇状气泡图等可视化图像直观展现分析成果,以期为中国真空镀膜装备制造企业技术创新思路借鉴、企业并购、技术合作、人才引进及产业相关政策制定提供参考策略.
基金项目
国家市场监督管理总局科技项目(2020MK082)
维普
万方数据