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ITO靶材制备的发展及现状

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ITO靶材通常用于制作透明导电薄膜,是半导体光伏、LCD/OLED显示器等领域不可或缺的原材料.文章综合评述了ITO靶材制备技术现状,介绍了其常规制备方法,如ITO纳米粉体制备、成型技术、烧结技术、靶材绑定焊接技术等ITO靶材制备工艺,并分析了各工艺的优点和缺点,提出了高品质ITO靶材制备技术的研究方向.

张倍维、黄誓成、陆映东、宋春华

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广西晶联光电材料有限责任公司,广西 柳州 545006

ITO靶材 制备 烧结

2022

企业科技与发展
广西科学技术情报研究所

企业科技与发展

CHSSCD
影响因子：0.331
ISSN：1674-0688
年,卷(期)：2022.(3)
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