查看更多>>摘要:二氧化硅(SiO2)薄膜因其卓越的光学性能,在半导体器件、集成电路、光学涂层等领域具有巨大的应用潜力.然而,SiO2薄膜制备过程中面临表面粗糙度、杂质控制和致密性等问题.为解决这些问题,研究者们通过工艺改进和表面修饰等手段来提高SiO2薄膜的性能.在众多SiO2薄膜制备技术中,等离子体增强化学气相沉积(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)技术由于沉积SiO2薄膜所需温度低、原位生长等优势,成为制备SiO2薄膜最常用的方法.综述了用PECVD技术制备SiO2薄膜的发展历程,并探讨了关键工艺参数和后处理工艺对薄膜质量的影响.对PECVD技术的深入研究,有助于实现对SiO2薄膜生长的更精准控制,进一步拓展其广泛的应用前景.
查看更多>>摘要:针对类美国末段高空域防御(Terminal High Altitude Area Defense,THAAD)系统的红外导引头外形,开展了气动光学效应计算分析,并将其用于飞行器设计.利用国家数值风洞工程高速流场计算软件NNW-HyFLOW,考虑热化学非平衡效应和材料传热耦合效应,对导引头典型状态的流场进行了模拟,获得了流场的密度、温度、压力等参数和窗口的温度场参数.基于流场参数,利用HyFLOW气动光学传输效应计算功能,开展了红外光学传输成像计算;利用HyFLOW气动光学辐射效应计算模块,开展了流场和光学窗口的热辐射计算.计算结果表明,类THAAD导引头在30 km以上飞行时,流场和光学窗口基本不会影响目标信号的光学传输成像,但流场和窗口的热辐射效应会对导引头识别目标造成影响.不过随着飞行高度的升高,这种影响会减小.