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化学世界
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高滋

月刊

0367-6358

shahua@online.sh.cn

021-64731200 64733615

200020

上海市南昌路203号

化学世界/Journal Chemical WorldCSCD北大核心
查看更多>>本刊为化学化工综合性技术刊物。报道化学、化工领域的科研技术与应用成果。栏目有综述专论、有机工业化学、无机工业化学、工业分析、化学工程、新技术、新成果、新信息、化学天地、学会活动。读者对象为化学化工专业科研技术人员及大学、中学教师。
正式出版
收录年代

    化学机械抛光液的研究现状

    王东哲张恒飞付玉刘茂举...
    60-66页
    查看更多>>摘要:化学机械抛光(CMP)是一种化学腐蚀和机械磨削协同作用的超精密加工技术.化学机械抛光液是化学机械抛光技术中关键的一部分,对材料的全局平坦化处理起到了至关重要的作用.综述了化学机械抛光液中各组分对抛光性能的影响研究.

    化学机械抛光液组分影响研究

    《化学世界》征稿简则

    《化学世界》编辑部
    封4页