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真空科学与技术学报
真空科学与技术学报

吴锦雷

月刊

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真空科学与技术学报/Journal Chinese Journal of Vacuum Science and TechnologyCSCD北大核心CSTPCDEI
查看更多>>本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
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    等离子体增强原子层沉积二氧化硅对多晶硅的损伤机理及防范工艺研究

    何亚东袁刚李拓周毅...
    552-558页
    查看更多>>摘要：文章通过电子束检测(EBI)手段研究了等离子体增强原子层沉积(PEALD)SiO2 过程中硅烷基酰胺类前驱体副产物对多晶硅产生不可逆损伤的机理.提出用单胺基硅烷基酰胺替代多胺基硅烷基酰胺作为前驱体,来减轻对多晶硅材料的损伤.在不损伤多晶硅前提下,进一步研究化学位阻较小的单胺基前驱体二异丙胺硅烷(DIPAS)对反应速率的影响.

    等离子体增强原子层沉积硅烷基酰胺氧化硅二异丙胺硅烷(DIPAS)

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