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基于PLC的原子沉积设备控制系统设计与实现

Design and Realization of Atomic Deposition Equipment Control System Based on PLC

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目的 为提高原子沉积镀膜工艺的可靠性,稳定薄膜质量,设计基于可编程逻辑控制器(PLC)的一种原子层沉积设备控制系统.方法 针对工作原理和工艺需求,根据传感器和执行器的特点,确定了以西门子S7–200 Smart PLC为控制器,以昆仑通态1070Gi触摸屏作为人机界面的硬件系统方案,实现所有逻辑控制;并利用PLC的晶体管输出端子,采用"PID+PWM"技术进行加热区域温度控制.结果 该控制系统实现了原子沉积镀膜一键操作,保证了镀膜过程中高精度温度均匀性要求(±1℃),确保了设备的可靠性和沉积薄膜的可重复性.结论 经实际应用,证明该控制系统具有稳定性好、误差小、自动化程度高等优点,达到了工艺要求.

邹兆瑞、李壮举、曹少中、陈强、史子棋

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北京建筑大学 电气与信息工程学院,北京 102616

北京印刷学院,北京 102600

原子层沉积 PLC 温度控制 脉冲宽度调制

国家自然科学基金北京市教委联合项目北京市市属高校高水平创新团队建设项目

11875090KZ202010015021IDHT20190506

2023

10.19554/j.cnki.1001-3563.2023.01.018

包装工程
中国兵器工业第五九研究所

包装工程

北大核心
影响因子：1.097
ISSN：1001-3563
年,卷(期)：2023.44(1)
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