摘要
采用电沉积技术在纯铜片上制备了钴钨合金薄膜,并研究了钴-钨合金薄膜的磁性能与其厚度、结构及表面形貌等的关系.结果 表明:钴钨电沉积属于诱导共沉积,钨在钴表面氢原子的催化作用下与钴发生共沉积.钴-钨合金薄膜的厚度约为6 μm,属于Co3W四面体结构,其表面由典型瘤状颗粒构成.钴-钨合金薄膜垂直方向的磁性能优于平行方向的磁性能,最大矫顽力为74.42kA/m.
基金项目
陕西省教育厅哲学社会科学重点研究基地项目(17JZ079)
陕西省教育厅科学研究项目(16JK1828)
咸阳师范学院“青年骨干教师”(XSYGG201717)
咸阳师范学院专项科研基金(XSYK18054)
陕西省职业教育研究课题(SZJYB19-215)
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